Справочник технолога-оптика - Окатов М.А.
ISBN 5-7325-0236-Х
Скачать (прямая ссылка):
Число подложек шириной 38 и длиной 2200 мм, устанавливаемых в кассеты .............................. 5-7
Скорость перемещения заготовок, регулируемая в пределах, мм/с......................................... 1-20
Число испарителей (магнетронных)..................... 2
Максимальная мощность магнетрона, кВт ........... 20
Число ионных источников типа «ПРИМА» ................ 5
Максимальная мощность ионного источника, кВт ... 4
Диапазон длин волн измерения интегрального коэффициента пропускания слоя хрома, мкм ................. 0,4-1,0
Диапазон измерения интегрального коэффициента пропускания слоя хрома, % ............................. 0,5-100,0
Расход холодной воды при давлении (3 + 5) 105 Па
и температуре 5-20 °С, л/с .......................... 0,9
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 60-90 °С, л/с ............................. 0,4
Сжатый воздух давлением, Па.......................... (4 -ь 6) 105
Внутренние габаритные размеры рабочей камеры
(2 шт.), мм ......................................... 2400x 160x700
Максимальная потребляемая мощность, кВт.............. 50
Общая площадь, занимаемая установкой, м2............. 40
Масса, кг ........................................... 4500
Вакуумная установка ВУ-ПИОН предназначена для ионной и ионно-химической обработки оптических деталей диаметром до 500 мм с помощью сеточного электрода с одновременным интерференционным контролем величины съема материала в процессе обработки (ионное травление, асферизация, зональная ретушь).
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-ПИОН
Предварительное давление в камере с арматурой, Па,
не более .................................................. 1 ¦ 10_3
Диапазон регулирования рабочего давления в камере при напуске технологического газа, Па .......................... 0,67-6,70
Диапазон частоты вращения арматуры, с-1.................... 0,5-1,0
Максимальный диаметр ионного пучка в зоне обработки, мм 500
Возможность одновременной обработки ионным пучком деталей диаметром:
до 500 мм ............................................ 1 шт.
» 200 ........................................... 3 шт.
» 100 ».......................................... 5 шт.
» 70 ».......................................... 11 шт.
Максимальная плотность разрядного тока ионного источника, мА/см2 ............................................... 1,17
Неравномерность скорости обработки оптической детали диаметром 450 мм, % , не более .............................. 5
Расход холодной воды при давлении (3 <¦ 5) 105 Па и температуре 5-20 °С, л/с....................................... 0,14
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с ....................................... 0,06
Средний расход жидкого азота, м3/с ........................ (3 + 12)10"7
Внутренние габаритные размеры камеры, мм .................. 0 700 х 770
Максимальная потребляемая мощность, кВт.................... 25
Общая площадь, занимаемая установкой, м2................... 5,5
Масса, кг ................................................. 2200
t, _________________________________
589
i
Вакуумная установка У-343 предназначена для ионно-лучевой обработки (ионной очистки, асферизации, зональной ретуши) оптических деталей диаметром до 650 мм с помощью ионного источника типа «Кауфман». Система ЧПУ обеспечивает координатное перемещение детали и управление ионным пучком. Технические характеристики вакуумной установки У-343
Предварительное давление в камере с арматурой, Па,
не более ............................................ 1,33-Ю-3
Диапазон регулирования рабочего давления в камере при
напуске технологического газа, Па ................... (2,66 + 1,33) 1СГ3
Наибольший ход стола с деталью, мм................... 350
Диапазон скоростей перемещения стола:
линейной, мм/с .................................. 0-83
угловой,об/с .................................... 0-8,3
Диапазон диаметров ионного пучка, регулируемых дискретно диафрагмами, мм .............................. 20-50
Наибольший диаметр обрабатываемой детали, мм . . . 650
Энергия ионного пучка, кэВ .......................... До 3,5
Сила тока ионного пучка (по аргону), мА.............. До 30
Точность формы по среднеквадратичной погрешности
на диаметре 500 мм, X ............................... До 0,01
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ............ 1234 х 782 х 640
Расход холодной воды при давлении (3 + 5) 10° Па и температуре 5-20 °С, л/с ............................... 0,14
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с .............................. 0,06
Средний расход жидкого азота, м3/с .................. (5 + 10) 10"5 '
Максимальная потребляемая мощность, кВт.............. 24
Общая площадь, занимаемая установкой, м2............. 34
Масса, кг ........................................... 3950
Вакуумная установка ВУ-ИЛО предназначена для асферизации, ионного полирования, микрогравирования оптических деталей, удаления некачественных пленок с оптических деталей. Технические характеристики вакуумной установки ВУ-ИЛО
