Справочник технолога-оптика - Окатов М.А.
ISBN 5-7325-0236-Х
Скачать (прямая ссылка):
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ................. 0 500 х 650
Максимальная потребляемая мощность, кВт................... 10
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 ................. 4
Масса, кг ................................................ 1250
Вакуумная установка УТР-2 предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного испарения металлов и диэлектриков. Технические характеристики вакуумной установки УТР-2
Время достижения давления 1,3 - 10-4 Па, мин, не более .. 40
Наибольший диаметр детали, мм............................. 650
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 .......... 0,33
Диапазон температуры нагрева подложек, С ................. До 300
Число резистивных испарителей (РИ) ....................... 3
Максимальная мощность РИ, кВт ............................ 3,6
Расход холодной воды при давлении (3 + 5) 10® Па и температуре 5-20 °С, л/с ........................................ 0,1
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 10® Па и темпрату-
ре 80-90 °С, л/с ......................................... 0,025
Сжатый воздух давлением, Па............................... (4 + 6)10®
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ................. 0 750 х 660
Максимальная потребляемая мощность, кВт................... 12,5
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 ................. 8
Масса, кг ................................................ 1415
Вакуумная установка ВАК-760 (фирма «Бальцерс», Лихтенштейн) предназначена для термического напыления металлов, диэлектриков, полупроводниковых материалов в электронике и оптике, имеет встроенную ЭВМ, позволяющую автоматизировать процесс напыления. Технические характеристики вакуумной установки ВАК-760
Время достижения давления 2,6 • 10-4 Па, мин, не более ... 18
Максимальное число подложек 0 50 мм на арматуре . . 152
Полезная площадь напыления, м2 ........................ 0,94
Скорость вращения подколпачной арматуры, с-1........... 0-0,3
Диапазон температуры нагрева подложек, °С ............. 80-350
Число резистивных испарителей.......................... 1
592
Максимальная мощность РИ, кВт ......................... 4
Число электронно-лучевых испарителей .................. 2
Расход холодной воды при давлении (2 + 8) 105 Па и температуре 5-20 °С, л/с ................................. 0,24
Расход горячей воды при давлении (2 + 8) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с ................................ 0,09
Расход жидкого азота, кг/ч ............................ 6
Сжатый воздух давлением, Па............................ (5 8) 105
Максимальная потребляемая мощность, кВт................ 46
Внутренние габаритные размеры камеры, мм .............. 923 х 888 х 950
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 .............. 7
Масса, кг ............................................. 2300
Вакуумная установка A-700QE (фирма «Лейбольд-Гереус», Германия) предназначена для вакуумного напыления металлов, полупроводниковых материалов, диэлектриков методом термического напыления. При комплектовании установок микропроцессором «Levcom» возможно полное автоматизированное напыление оптических пленок.
Технические характеристики вакуумной установки A-700QE
Время достижения давления 2,6 ¦ 10-5 Па, мин, не менее ... 15
Максимальное число подложек 0 40 мм на арматуре .... 70
Полезная площадь напыления, м2 .......................... 0,50
Скорость вращения подколпачной арматуры, с-1............. 0-0,5
Максимальная температура нагрева подложек, °С........... 350
Число электронно-лучевых испарителей ................... 2
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт ......................... 6
Спектральный диапазон измерений фотометрического контроля, мкм ............................................... 0,2-3,2
Расход холодной воды при давлении (2,3 + 3,0) 105 Па и температуре 5-20 °С, л/с ................................... 0,12
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с .................................... 0,06
Средний расход жидкого азота, м3/с ...................... (5-=-15)10-7
Сжатый воздух давлением, Па.............................. (4 ¦+¦ 7) 105
Максимальная потребляемая мощность, кВт................. 36
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 ............... 9
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ................ 0 710x685
Масса, кг ............................................... 3600
Вакуумная установка A-1100Q (фирма «Лейбольд-Гереус», Германия) предназначена для нанесения металлов, полупроводниковых материалов и диэлектриков в электронике и оптике.
Технические характеристики вакуумной установки A-1100Q
Время достижения давления 1,3 ¦ 10_3 Па, мин, не менее ... 10
Максимальное число подложек 0 30 мм на арматуре . . . 450
Полезная площадь напыления, м2 ......................... 0,75
Скорость вращения подколпачной арматуры, с-1............ 0-0,5
Диапазон температуры нагрева подложек, С ............... 100-450
Число резистивных испарителей........................... 4
Максимальная мощность РИ, кВт .......................... 4,4
