Справочник технолога-оптика - Окатов М.А.
ISBN 5-7325-0236-Х
Скачать (прямая ссылка):
Максимальное число слоев, получаемых в одном технологическом цикле под управлением АСУТП .................... 32
Максимальная потребляемая мощность, кВт................ 75
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 .............. 16
Масса, кг ............................................. 2950
Вакуумная установка ВУ-2М-01 предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого, резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с ионным ассистированием и одновременным контролем толщины покрытия.
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-2М-01
Оптимальное давление рабочего газа при работе источника ионного ассистирования, Па ........................8 ¦ 10'3 5 ¦ 1 СГ2
Время достижения давления 7 ¦ 1 СГ4 Па мин, не более ... 30
Максимальное число подложек 0 40 мм на арматуре ... 90
Полезная площадь напыления, м2 ....................... 0,65
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 ....... 0,1-1,0
Диапазон температуры нагрева подложек, °С ............ 50-320
Число резистивных испарителей (РИ) ................... 1
Максимальная мощность РИ, кВт ........................ 3,6
Число электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ)............ 2
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт ....................... 12
Число ионных источников АИДА.......................... 1
Максимальное значение силы ионного тока, А ........... 0,75
Максимальная плотность ионного тока, мА/см2 .......... 3
Средняя расчетная энергия ионов, эВ................... 20-120
Габаритные размеры источника, мм...................... 140x185 x220
Масса источника (без блока питания), кг .............. 8
Система фотометрического контроля..................... СФКТ-751В
Спектральный диапазон, мкм ........................... 0,25-1,10
Расход холодной водопроводной воды при давлении
(3 + 5) 105 Па и температуре 5-20 °С, л/с ............ 0,14
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с ............................... 0,06
Средний расход жидкого азота, м3/с ................... (3 + 12) 10-7
Сжатый воздух давлением, Па........................... (4 + 6) 105
587
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ............... 0 700x770
Максимальная потребляемая мощность, кВт................. 33
Общая площадь, занимаемая установкой, м2................ 6
Масса, кг .............................................. 2100
Вакуумная установка ВУ-«Алмаз» предназначена для нанесения просветляющих и защитных покрытий нулевой группы механической прочности и алмазоподобных покрытий с одновременным кварцевым и фотометрическим контролем толщины покрытий.
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-«Алмаз»
Диапазон регулирования давления в камере при напылении, Па .............................................1 ¦ 10'1 -S- 5 ¦ 10-*
Диапазон регулирования давления технологического газа при ионно-лучевой обработке, Па.....................1 ¦ 10-1 -5-8 ¦ 10~3
Число подложек 0 150 мм на арматуре.................... 22
» » 0 350 мм » »....................... 4
Полезная площадь напыления, м2 ........................ 1,33
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 ....... 0,1-0,7
Число электродуговых испарителей ...................... 1
« высокоточных генераторов с источником питания 1
Число линейных ионных источников типа «Кауфман» ... 1
Число электродуговых источников типа «Булат» .......... 1
« электронно-лучевых испарителей..................... 2
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт ........................ 10
Время достижения в камере давления 10 2 Па, мин, не
более ................................................. 15
Время достижения в камере давления 5 ¦ 10~3 Па, мин,
не более .............................................. 30
Время достижения в камере давления 1 ¦ 10-4 Па, мин,
не более .............................................. 60
Система фотометрического контроля...................... СФКТ-А
(СФКТ-АМ)
Спектральный диапазон, мкм ............................ 0,2-1,1
Расход холодной воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 5-20 °С, л/с ................................. 0,45
Расход горячей воды при давлении (3 5) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с 0,30
Средний расход жидкого азота, м3/с .................... (10 + 30) 10-7
Сжатый воздух давлением, Па............................ (4 + 6) 105
Внутренние габаритные размеры камеры, мм .............. 0 1000 х 950
Максимальная потребляемая мощность, кВт................ 45
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 .............. 10
Масса, кг ............................................. 4000
Вакуумная установка ВУ-«Растр>> с автоматическим управлением откачкой предназначена для нанесения хрома на стеклянные подложки растровых мер и других металлов на плоские оптические детали.
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-«Растр»
Рабочее давление в камере, Па .............. 1 • 10-2
Время достижения давления 1 ¦ 10-2 Па, мин, не более 15
588
Число подложек шириной 10 н длиной 2200 мм, уста- >
навливаемых в кассеты ............................... 20-25
