Справочник технолога-оптика - Окатов М.А.
ISBN 5-7325-0236-Х
Скачать (прямая ссылка):
9.15.1. СТАНКИ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ХИМИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ
В табл. 9.31 приведены основные типы одношпиндельных станков для изготовления химических покрытий на деталях диаметром от 3 до 1000 мм. Последующая термическая обработка покрытий осуществляется в различном серийном или нестандартном нагревательном оборудовании с максимальной температурой нагрева до 350 °С.
9.15.2. ВАКУУМНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
Вакуумная установка ВУ-1А предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения металлов, полупроводниковых материалов
583
Таблица 9.31. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ СТАНКОВ
ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ХИМИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ
Параметр СП-15М СП-ЗОУ (*) СП-150М
Диаметр подложки, мм 3-25 3-30 20-150
Частота вращения шпинделя, с-1 100-300 100-300 16,7-100,0
Способ подачи раствора Вручную
Вид крепления подложки В вакуумном или механическом патронах
Потребляемая мощность 0,66 1,5 1,6
Габаритные размеры (длинах хширинахвысота), мм 1100x600x1050 900x800x1250 1300x1010x1170
Масса, кг 230 830 900
Параметр СП-150У (*) СП-300М СП-ЮООМ
Диаметр подложки, мм 30-150 150-300 300-1000
Частота вращения шпинделя, с~1 16,6-100,0 8,3-41,6 1,7-23,3
Способ подачи раствора Вру1 Шую Дозатором
Вид крепления подложки В вакуумном или механическом патронах
Потребляемая мощность 2,5 1,6 6,3
Габаритные размеры (длинах хширинахвысота), мм 1200x900x1250 1160x1090x1170 3700x2660x3600
Масса, кг 1040 1150 4600
и диэлектриков с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия. Технические характеристики вакуумной установки ВУ-1А
Время достижения давления 2,6 ¦ 1СГ4 Па, мин, ие более ... 40
Максимальное число подложек 0 40 мм на арматуре .... 60
Полезная площадь напыления, м2 .......................... 0,43
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 .......... 0,1-1,5
Диапазон температуры нагрева подложек, °С ............... 50-320
Число резистивных испарителей (РИ) ...................... 2
Максимальная мощность РИ, кВт ........................... 3,6
Число электронно-лучевых испарителей .................... 1
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт .......................... 6
Фотометрический контроль толщины......................... СФКТ-751В;
СФКТ-751И
Спектральный диапазон, мкм .............................. 0,25-1,1;
0,8-2,6
Расход холодной воды при давлении (3 + 5)105 Па и температуре 5-20 °С, л/с ..................................... 0,14
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и темпера-
ратуре 80-90 °С, л/с..................................... 0,06
Средний расход жидкого азота, м3/с ...................... (3 + 12) 10'7
Сжатый воздух давлением, Па.............................. (4 -г- 6) 105
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ................ 0 700x 700
Максимальная потребляемая мощность, кВт.................. 20
Общая площадь, занимаемая установкой, м2................. 6
Масса установки, кг...................................... 1700
584
Вакуумная установка ВУ-2М предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия.
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-2М
Время достижения давления 6 ¦ 10~4 Па, мин, не более .... 30
Максимальное число подложек 0 40 мм на арматуре .... 90
Полезная площадь напыления, м2 ........................... 0,65
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 .......... 0,1-1,0
Диапазон температуры нагрева подложек, °С ................ 50-320
Число резистивных испарителей (РИ) ....................... 1
Максимальная мощность РИ, кВт ............................ 3,6
Число электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ)................ 2
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт ........................... 6
Фотометрический контроль толщины ......................... СФКТ-751В;
СФКТ-751И
Спектральный диапазон, мкм ............................... 0,25-1,1;
0,8-2,6
Расход холодной воды при давлении (3 -г- 5) 105 Па и температуре 5-20 °С, л/с ...................................... 0,14
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с........................................ 0,06
Средний расход жидкого азота, м3/с ....................... (3-5-12) 10~7
Сжатый воздух давлением, Па............................... (4-^6) 105
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ................. 0 700 х 770
Максимальная потребляемая мощность, кВт................... 30
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 ................. 6
Масса, кг ................................................ 1970
Вакуумная установка ВУ-2ММ (*) предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методами электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим и кварцевым контролем толщины покрытий в автоматическом режиме процесса напыления.
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-2ММ
Время достижения давления 6 ¦ 10-4 Па, мин, не более .... 30
