Научная литература
booksshare.net -> Добавить материал -> Физика -> Чопра К. -> "Тонколенточные солнечные элементы" -> 46

Тонколенточные солнечные элементы - Чопра К.

Чопра К., Дас С. Тонколенточные солнечные элементы — М.: Мир, 1986. — 435 c.
Скачать (прямая ссылка): tonkosloyniesolnichnieelementi1986.djvu
Предыдущая << 1 .. 40 41 42 43 44 45 < 46 > 47 48 49 50 51 52 .. 177 >> Следующая

Сплав 60% Sn, 40 % Pb Олово Свинец hbf4 Пептон 60 25 100 5.0 -
Pd Pd(NH3)4Br2 NH3Br 30 45 50 .
Методы осаждения тонких пленок
литического и химического осаждения пленок металлов и сплавов
121
Плотность тока, А/дм2 Напряжение на ванне, В pH Отношение площадей анода и катода Литература
Катод Анод
осаждение 1,0 .. . 3,2 0,5 .. . 1,0 6 3 : 1 [144]
3 ... 5 1,7 — — — [145]
1,1 .. . 8,6 0,5 .. . 2,5 2,2 .. . 4,3 0,5 .. . 1,5 1,4 ... 4 8,1 . . . 8,4 1:1... 2 : 1 [146]
0,5 .. . 1,5 — — — — [145]
0,2 ... 1 — — 6 ... 8 — »
0,1 .. . 0,5 — — 3 ... 6 — »
3,2 — — — — [144]
4 — — 9,2 — »
122
Глава 2
Состав ванны
Металл или сплав Компоненты Количество вещества, г/л Температура, °с
Химическое
Ni NiCl2* 6Н20 Гилрофосфит натрия (NaH2P02-Н20) Кислотная Г'илроксиацетат нат- ’ ванна рня (HOCH2COONa) 30 10 50 90
NiC12-6H20 ] Щелочная NaH2P02-H20 1 ванна Лимоннокислый нат-J рий (Na*C6Hs07-2H20) ] 30 10 84 90
Си NHiCl CuS04- 5НлО Виннокислый калий — натрий (KNaC4H4(V НоО) NaOH Формальдегид 50 3,6 25 3,8 10 22
Pd PdC!2 NH4OH (27 %) NH4C1 NaH2P02- Н20 2 160 мл/л 26 10 50
А и KCN KAu(CN)2 КОН p;bh4 13 5,8 11,2 21,6 75
Ag AgCN NaCN NaOH Диметиламинборан ((CH3)?NHBH?) Тиомочевина 1,34 1,49 0,75 2,0 з-ю-4 55
Методы осаждения тонких пленок
125
Продолжение
Плотность тока, А/дм2
Напряжение на ванне, В Отношение
Катод Анод pH площадей анода и катода Литература
осаждение
— — — 4 ... 6 — [145]
— — 8 ... 10 — »
— — — — — [145]
— — — — — »
— — — — — »
— — — — — »
124
Глава 2
ской восстановительной. Преимущество данного метода перед другими методами получения пленок C112S состоит в возможности более точного контроля процесса осаждения благодаря его большей продолжительности и исключению из числа реагентов нестабильных солей меди.
2.3.6.3 Химическое или автокаталитическое осаждение
Так же как и при электролитическом осаждении, в процессе химического осаждения происходит восстановление ионов металла с образованием осаждаемого вещества, однако в данном случае внешний источник энергии, генерирующий электроны, не применяется. Вместо этого для активации процесса осаждения используется каталитически активная поверхность, причем для дальнейшего протекания реакции необходимо, чтобы сам металл был катализатором. Наличие в растворе электронов, участвующих в реакции восстановления, обеспечивает восстановитель. Поскольку осаждаемые металлы должны обладать каталитической активностью, данный метод применим для получения пленок ограниченного числа металлов. В табл. 2.10 приведены типичные параметры процесса осаждения ряда металлов. Достоинства метода химического осаждения состоят в следующем: 1) возможно осаждение очень однородных пленок без утолщений по краям и на выпуклых участках подложки; 2) получаемые пленки обладают меньшей пористостью, чем электро-осажденные пленки; 3) возможно осаждение пленок на непроводящие подложки после предварительной обработки, придающей их поверхности каталитическую активность.
2.3.7 Анодирование
Анодирование представляет собой разновидность процесса термического окисления, осуществляемого в электрическом поле [152]. Анод, изготовленный из металла, на который должно быть нанесено покрытие, погружают в кислородсодержащий электролит, в качестве которого может применяться водный или безводный солевой раствор, а также расплав соли. Осаждение можно проводить при постоянном напряжении [153] или постоянном токе. В первом случае при погружении металла на продолжительное время в электролитическую ванну получают пленки воспроизводимой толщины, которая зависит от приложенного напряжения. Величину, равную отношению толщины пленки к приложенному напряжению, называют константой роста анодной пленки. В табл. 2.11 представлены константы роста анодной пленки для различных металлов. Недостаток процесса анодирования, осуществляемого при постоянном напряжении, состоит в том, что на начальных стадиях роста пленки необходимо обеспечить токи очень высокой плотности. Подобной проб-
Таблица 2.11. Состав электролитов и параметры процесса анодирования различных металлов и полупроводников
Материал анода Состав и тип анодной пленки Применяемый электролит Плотность тока, мА/см2 Максимальное напряжение, В Константа роста анодной пленки, нм/В Напряженность поля, вызывающего пробой, В/см Максимальная толщина пленки, мкм Литература
А1 А120з (пористый) 15%-ная H2S04 (21 °C) 8 ... 10 >350 1,36 (1 . . . 5)-10е 1,5 [160]
А1203 (беспори- стый) Борная кислота — 52,5 % Этиленгликоль — 43,4 % Аммонийгликоль — 3,6 % Ди гидроортофосфат аммония — 0,5 % (указаны массовые доли веществ) 8 ... 10 >350 1,36 (1 ... 5) • 106 1,5 [162]
Та ¦ Та205 0,05 % Н3Р04, 50 % этиленгликоль, вода 1,0 300 1,60 5-10е 1,1 [160]
Cd CdO 25 г/л КОН 0,05 -10 — — — [161]
CdS 1 М Na2S (водный раствор) — — — (1 . . . 2)- 10е 0,25 [159]
Bi Bi2S3 1 М Na2S, 0,05 М S — — — (I . . . 2)-10е — [159]
Ge Ge02 Безводный ацетат натрия в ледяной уксусной кислоте 0,01 . . . 0,03 5,0 — (1 . . . 4)-10е 0,12 [160]
Предыдущая << 1 .. 40 41 42 43 44 45 < 46 > 47 48 49 50 51 52 .. 177 >> Следующая

Реклама

c1c0fc952cf0704ad12d6af2ad3bf47e03017fed

Есть, чем поделиться? Отправьте
материал
нам
Авторские права © 2009 BooksShare.
Все права защищены.
Rambler's Top100

c1c0fc952cf0704ad12d6af2ad3bf47e03017fed