Научная литература
booksshare.net -> Добавить материал -> Электротехника -> Дашкевич И.П. -> "Высокочастотные разряды в электротермии" -> 13

Высокочастотные разряды в электротермии - Дашкевич И.П.

Дашкевич И.П. Высокочастотные разряды в электротермии — Л.: Машиностроение , 1980. — 56 c.
Скачать (прямая ссылка): visokotochnierazryadi1980.djvu
Предыдущая << 1 .. 7 8 9 10 11 12 < 13 > 14 15 16 17 18 19 .. 23 >> Следующая

1) источник питания — высокочастотный генератор, в котором происходит преобразование тока промышленной частоты 50 Гц
30
в ток высокой частоты, используемый для питания индуктора плазматрона;
2) индукционный плазматрон, в котором возбуждается плазма какого-либо газа;
3) технологический блок — устройство, предназначенное для реализации свойств плазмы;
4) контрольно-измерительная аппаратура, служащая для контроля, измерения и регулирования технологического процесса, осуществляемою па плазменной установке.
В качестве источников питания индукционных плазматронов в настоящее время используют ламповые генераторы, работающие с самовозбуждением [2]. Мощности генераторов лежат в пределах от нескольких киловатт до 1000 кВт. Частота тока обычно находится и пределах от 440 кГц до 40 МГц, причем в мощных генераторах используются более низки частоты, и наоборот. Для согласования индукционного плазматрона с генератором в широком диапазоне нагрузок используется сложная схема генератора, т. е. применяются два колебательных контура.
Отеч&ствеиной промышленностью выпускаются генераторы для питания индукционных плазматронов, технические характеристики которых приведены в табл. 4.
Недостаток ламповых генераторов как источника питания индукционных плазматронов заключается в их ограниченной мощности. Существующие в настоящее время генераторные триоды могут обеспечить создание генераторов мощностью не более 1000—2000 кВт. В то же время крупнотоннажные производства современной химической промышленности уже сейчас предъявляют требования на установки мощностью 5—10 МВт и более. Выходом из положения является понижение частоты и применение новых источников питания — электромашинных и тиристорных преобразователей частоты. Используемый диапазон частот в этом случае не превышает 10 000 Гц [23]. Мощность плазменной установки может достигать величины нескольких десятков мегаватт.
Достоинством применения электромашинных и тиристорных преобразователей частоты является возможность параллельной работы на общую нагрузку, которой является индукционный плазматрон большой мощности. В настоящее время пока еще не имеется промышленных образцов низкочастотных индукционных плазматронов, но в ряде стран ведутся интенсивные исследования. С целью обеспечить хорошую связь между индуктором низкочастотного плазматрона и плазмой применяют стальной магни-топровод (замкнутый или незамкнутый). На рис. 18 изображен лабораторный образец низкочастотного плазматрона с магннто-проводом на уровень мощности в несколько десятков киловатт, работающий на частоте 8000 Гц.
Рассмотрим устройство индукционных плазменных установок на нескольких характерных примерах. На рис. 19 показана схема установки для непрерывного отжига движущейся проволоки или нити до температуры 2500 °С [7]. Нагрев производится в замкнутом пространстве в инертно-восстановительной атмосфере. В качестве-плазмообразующего газа используется аргон, на конце плазменного факела 2 которого производится нагрев проволоки 14, движущейся со скоростью до 10 м/мин. В качестве
31
4. Технические характеристики отечественных высокочастотных плазменных генераторов
Тип генератора Мощность тока высокой частоты, кВт Мощность от сети, кВ-А Частота тока, МГц Тип генераторной лампы Расход охлаждающей воды, мЗ/ч Габаритные размеры, мм Масса, кг
В ЧИ-63/5,28 60,0 105,0 5,28 ГУ-23А 3,6 5500X800X2090 3350
В ЧИ 11-60/1,76* 60,0 90,0 1,76 ГУ-66А 4,5 Генераторный блок 2000X1360X2200; контурный блок 1600X700X2000 2050
ВЧГ2-160/1,76 160,0 235,0 1,76 ГУ-68 А 6,0 Генераторный блок 1500ХЮ00Х2000; блок питания 2200X800X2000; блок фильтра 1500ХЮ00Х2000; блок нагрузочного контура 1400Х1775Х 2000; блок управления 800Х800Х 2000; пульт управления 700Х400Х 1800 4600
В ЧГ-1000/0,44 1000,0 1600,0 0,44 ГУ-65А 33,6 ** — —
* В комплекте с плазматроном. **• Система охлаждения замкнутая.
К
о
ос
о

* 3
5
I
¦-i
? s«
о - c\
О -о
& =Z CO 05 ft) fi
? s
о 33 H
О J3
M
Is
о 2 °g ts О p Sa
05
CO
s
CO
03
V
плазмообразующего газа можно использовать водород. В этом случае отпадает необходимость в двух источниках газа. Однако вследствие высокой энтальпии водорода возрастает мощность, необходимая для поддержания индукционного разряда. Мощность в плазме значительно превышает мощность, необходимую для нагрева проволоки, что делает энергетически невыгодным использование такой схемы. Более рационально вести нагрев в плазме аргона, при этом требуемая мощность в плазме на порядок меньше. Водород, подаваемый в верхнюю часть плазматрона, в плазмообразовании не участвует.
В установке используется плазматрон 1 с кварцевой разрядной камерой и тангенциальной подачей газа. Питание индуктора 3 плазматрона осуществляется от высокочастотного генератора 11 мощностью 10 кВт с частотой тока 5,28 МГц. Первона-
Рис. 20. Схема индукционной плазменной установки для получения сферических частиц
чальное возбуждение разряда производится с помощью трансформатора Тесла 5, высоковольтный вывод 4 которого касается снаружи разрядной камеры. Нагреваемая проволока или нить сматывается с катушки 7. В камеру 6 для очистки поверхности проволоки может подаваться водород. Отработанный водород сгорает в факеле 13. Проволока, прошедшая нагрев, наматывается на приемную катушку 12. Рабочие газы — аргон и водород — подаются из баллонов 10. Краны 9 служат для регулирования расхода газов; с помощью ротаметров 8 осуществляется контроль расхода газа.
Предыдущая << 1 .. 7 8 9 10 11 12 < 13 > 14 15 16 17 18 19 .. 23 >> Следующая

Реклама

c1c0fc952cf0704ad12d6af2ad3bf47e03017fed

Есть, чем поделиться? Отправьте
материал
нам
Авторские права © 2009 BooksShare.
Все права защищены.
Rambler's Top100

c1c0fc952cf0704ad12d6af2ad3bf47e03017fed